专家讨论对华DUV光刻机出口管制与MATCH法案

2026年10月20日，ChinaTalk播客发布对智库Center for Technology and Statecraft联合创始人Nick Brown的访谈，讨论MATCH法案。据该访谈，MATCH法案拟将DUV浸没式光刻等半导体设备从实体清单管制升级为全国范围管制，并推动日本、荷兰对齐对SMIC、CXMT的管制。Brown在访谈中讨论这一限制DUV浸没式光刻出口的做法能否保住美国AI算力优势。目前该法案仍处于专家讨论阶段，报道未提及立法进展或生效时间。

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